英特爾導入高數值孔徑極紫外光設備,成本過高恐致虧損擴大
啄木鳥電報網報導,英特爾(Intel)搶先引進艾司摩爾(ASML)的高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備,被業界視為重返技術領導地位的重要舉措。然而,產業專家警告,高成本的 High-NA EUV 設備可能導致英特爾面臨虧損擴大的風險。
英特爾搶先訂購 High-NA EUV 設備
當英特爾(Intel)搶先訂購 High-NA EUV 設備時,韓國媒體報導,ASML 今年製造的 5 台 High-NA EUV 設備已全數由英特爾包下。相比之下,台積電決定在 A16 製程中繼續使用現有的 EUV 設備,不採用 High-NA EUV,引發了廣泛的討論。
季辛格承認過去決策失誤
英特爾執行長季辛格(Pat Gelsinger)承認,過去反對使用 ASML 的 EUV 設備是一個錯誤決策,導致晶圓代工業務缺乏盈利能力。他強調,採用 EUV 設備後,英特爾在價格和性能方面都具備競爭力。業界密切關注英特爾搶先導入 High-NA EUV 設備是否能夠幫助其重返技術領先地位。
台積電年度技術論壇聚焦未來技術
近期,台積電在美國和歐洲舉行的年度技術論壇吸引了眾多關注。台灣場次將於 5 月 23 日登場,預計於 2026 年量產 A16 技術,結合奈米片電晶體和超級電軌架構,成為業界討論的焦點。
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台積電的審慎決策
工研院產科國際所研究總監楊瑞臨指出,台積電決定 A16 製程不採用 High-NA EUV 設備是經過綜合評估後的結果。台積電深知 High-NA EUV 設備的優勢,但在高成本的情況下,選擇其他方式以滿足客戶需求。
High-NA EUV 設備的優勢與挑戰
根據 ASML 的說法,High-NA EUV 設備將數值孔徑從 0.33 增至 0.55,具有更高的解析度和成像能力,能提升製造精度,簡化生產流程,減少生產時間,從而提高生產效率。然而,每套 High-NA EUV 設備的價格高達 3.8 億美元,比普通 EUV 設備高出一倍以上,約合新台幣 122 億元。
台積電對 High-NA EUV 設備的態度
台積電業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強在歐洲技術論壇上表示,他喜歡 High-NA EUV 設備的性能,但不滿其高昂的價格。台積電對於採用 High-NA EUV 設備持審慎態度,經過全面考量其必要性。
半導體先進封裝技術的重要性
楊瑞臨指出,隨著半導體先進封裝技術的重要性日益提高,英特爾爭搶 High-NA EUV 設備似乎是在「選錯戰場和武器」,因為 High-NA EUV 設備並非未來決勝的唯一關鍵。
台積電的生態系統與資金優勢
啄木鳥電報網觀察到,台積電作為全球晶圓代工領導者,擁有眾多客戶和完整的生態系統,且資金充裕。如果客戶有需求並願意支付更高的價格,台積電必然會考慮採用 High-NA EUV 設備。楊瑞臨補充道,英特爾大量採購 High-NA EUV 設備後,未來產能利用率值得觀察,且不排除虧損擴大的可能性。